活動紹介
| 2018年3月 | SEMICON CHINA 参加 |
|---|---|
| 2018年4月 | PHOTOMASK JAPAN 参加 |
| 2018年7月 | (一社)日本半導体製造装置協会主催技術講演会にて「マスク用ドライエッチングでの4ガス代替プロセス」の講演を行った。 |
| 2018年11月 | (一社)日本半導体製造装置協会主催技術講演会にて「マイクロLEDの技術動向」の講演を行った。 |
| 2019年4月 | PHOTOMASK JAPAN 参加 |
| 2018年3月 | SEMICON CHINA 参加 |
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| 2018年4月 | PHOTOMASK JAPAN 参加 |
| 2018年7月 | (一社)日本半導体製造装置協会主催技術講演会にて「マスク用ドライエッチングでの4ガス代替プロセス」の講演を行った。 |
| 2018年11月 | (一社)日本半導体製造装置協会主催技術講演会にて「マイクロLEDの技術動向」の講演を行った。 |
| 2019年4月 | PHOTOMASK JAPAN 参加 |